脈衝磁控濺射是一種用矩形波電壓脈衝電源（yuán）代替傳統（tǒng）直流電源的方法。脈衝濺（jiàn）射（shè）可以有效抑製電弧的產生，消除由此產（chǎn）生的薄膜缺陷（xiàn），同時可（kě）以提高濺射的沉積速（sù）率，降低沉積溫度等一係列顯著優點，是濺射絕緣材料沉積的工藝。脈衝磁控濺射的工作原理一個周期有正電壓

說起單極脈衝磁控濺射電源，可能有點困惑，但我想說的是，它是（shì）對直流磁控濺射（shè）電源的升級，是不是突然明白了？脈衝磁（cí）控濺射是用（yòng）矩形波電（diàn）壓脈衝（chōng）電源代（dài）替傳統直流電源的一種方法（fǎ）。脈衝（chōng）濺射可以有效地抑製電弧的產生，消除由此產（chǎn）生的薄膜缺陷，同時可（kě）以（yǐ）提高濺射的

直流磁控濺射和中頻磁控濺射是常見的濺射鍍（dù）膜工藝，但這兩種常見的濺射工藝有什麽區別1.直流磁控濺射濺（jiàn）射與氣壓的關係——要（yào）在一定範圍內提高電（diàn）離率(在盡可能低（dī）的壓力下保持（chí）較高的電離率)，要提高均勻性，就要在保證膜的（de）純度的同（tóng）時增加壓力，而要提高膜