在高技術產業化的發展中展現出誘人（rén）的市（shì）場前景。這（zhè）種的真（zhēn）空鍍膜技（jì）術已在國民經濟各個領域得到應用。真（zhēn）空鍍膜技術是真空應用技術的一（yī）個重要分支，它已廣泛地應（yīng）用於光學（xué）、電子（zǐ）學（xué）、能源開發、理化儀器、建築機械、包裝、民用製品、表麵（miàn）科學以及（jí）科學研究等領域中

在電（diàn）子科技快速發展的時代中（zhōng），電源的應用可以說是隨處可見的，或許正是（shì）因為電源的普遍應用，所以電源的類型（xíng）也隨之而（ér）多樣。真空鍍膜電源是眾多電源類型中的一種（zhǒng），這（zhè）種（zhǒng）電源與普通的電源有一定的區（qū）別（bié），單是電源的外（wài）觀就有明顯的不同。

在真空鍍膜時，使用直流負偏壓電源，其中運用直（zhí）流電源，這個電源的電子方向一直統一，會（huì）導致單（dān）一品種電荷堆積過高與（yǔ）控製源中和（hé）。也就是說用來提供動力的正負極被中和了。然後磁控濺射將不再持續。所以選用脈衝電源。真空鍍膜一種由（yóu）物理辦（bàn）法發生薄膜資料的技能