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真空鍍膜是真空應用（yòng）領域的一個突（tū）破性技術，利用物理或者化（huà）學方法並吸收一係列新技術而成的工（gōng）藝，目的就是為了在（zài）實（shí）際生產中為產品創造薄膜（mó）保護層。工藝主要分為真（zhēn）空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍三種。真空鍍膜（mó）電源廠家介紹真空鍍膜有什麽特點：
（1）成膜溫度低。鋼鐵行（háng）業中的熱鍍鋅鍍膜溫度一（yī）般是400℃～500℃，化（huà）學鍍膜溫度更高達1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變（biàn）質，而（ér）真空（kōng）鍍膜的溫度低，可以（yǐ）降（jiàng）到常溫，避免了常規鍍膜工藝的弊端。
（2）蒸發（fā）源選擇自（zì）由度大。可選擇的鍍膜材料多而不（bú）受材料熔點限製，可鍍種類眾多（duō）的金屬氮化膜，金屬氧化膜（mó）和金屬炭化物（wù）及各種複合膜。
（3）不使用有害氣體（tǐ）、液體（tǐ），對環境無不利影響。在當前（qián）越來越重視環保的大趨勢下，這點極其可（kě）貴。
（4）帶鋼鍍膜質量（liàng）好。能獲得均勻（yún）、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性（xìng）和附著力好。不（bú）存在熱鍍鋅中的漏鍍點、鋅浪、鋅（xīn）花等問題。
（5）工藝靈（líng）活，改（gǎi）變品種方便。可鍍單麵、雙麵和單層、多層及混合（hé）層。鍍膜厚（hòu）度易於控製。
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