隨著電力電子技術的高速發展,電子設備(bèi)與人們的工作、生活關係日益密切,而電子設備都離不開可靠的電源(yuán)。作為設備製造領域必不可少的(de)電子元器件之一,大功率開關電源廠家的開關電源技(jì)術(shù)隨著電力電(diàn)子技術的(de)發展和創新而在不斷(duàn)創新。目前,市場上存在的開(kāi)關電源種類繁多,開關電源廠家更是不計其數,隨著設備製造(zào)商(shāng)對電源(yuán)開(kāi)關種類的多樣化(huà)需求,開關(guān)電源製造商在不(bú)斷生產(chǎn)出更多種類的開(kāi)關電源。現在計(jì)算(suàn)機、通訊、電子(zǐ)設備以及家用電器設備等多種領(lǐng)域都在廣(guǎng)泛的(de)使用開關電源,這(zhè)些領域設備更新迅速,產品淘汰率(lǜ)高,所需的開(kāi)關電源種(zhǒng)類總在不斷更替,更加促進了開關電(diàn)源市場的迅猛發展。
在信息存儲領域中:薄膜材料作為信息記錄於存儲介質,有其得天獨厚的優勢(shì):由於薄膜很薄,可以忽略渦流損耗;磁化(huà)反轉極為(wéi)迅(xùn)速;與膜麵平行的雙穩態(tài)狀態容易保持等。為了(le)更精密地記錄與存儲信息(xī),必然(rán)要采用鍍膜技術。
在集成電路製造中:晶(jīng)體管路(lù)中(zhōng)的保護層(SiO2、Si3N4)、電極管線(多晶矽、鋁、銅及其(qí)合金)等,多是采用(yòng)CVD技術、PVCD技術、真空蒸發金屬(shǔ)技術、磁控濺射技術和射頻濺射技術。可見,氣相(xiàng)沉積是製備集成電路的核心技術之一。
電(diàn)源作為各種電(diàn)子設備不可獲取的組成部分,其性能優劣直接關係到電子設備的技術指標級能(néng)否安全可靠。如今的開關電源由於本(běn)身低能量消耗和較高(gāo)的電源效(xiào)率而取代(dài)了早(zǎo)期效率低、耗(hào)能高的線性(xìng)電源,被廣泛用於電子計算機、通訊、家(jiā)電等各個行業,被譽(yù)為高效節能型電源。
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