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在電子科(kē)技快速發展的時代中,電源(yuán)的應用可以說是(shì)隨處可見(jiàn)的,或許正是因為電源的普(pǔ)遍應用(yòng),所以電源(yuán)的類型也隨之(zhī)而多樣。鍍(dù)膜電源是眾多電源類型中的一種,這種電源與普通的電源有一定的區別,單是(shì)電源的外觀就有明顯的不同。鍍膜電源,顧名思義就是在電源的表麵鍍有一層保護膜。之所以會在電源表麵(miàn)鍍膜,其目的就是為了保護電源不被(bèi)外界因素而損壞。
對於真空鍍膜電源廠家來說,他們所知道的(de)數不勝數,電源的分類也是有一定依據的。電源的類型一般根據行(háng)業的性質來(lái)區別。例如,工業中使(shǐ)用的電源是工業電源。電(diàn)源還(hái)包括了弧電源,弧源,真空鍍膜電源,鍍(dù)膜(mó)弧電(diàn)源,真空鍍膜弧電(diàn)源,真空弧電(diàn)源,鍍膜電源等不過問題來了(le),為什麽(me)真空鍍膜電源廠會在這(zhè)些電源裏麵加多一(yī)項工藝步驟,即(jí)真空鍍膜?
首先先解釋一下真空鍍膜的意義,真空鍍膜(mó)是(shì)指在高真空的條件下(xià)加熱金屬(shǔ)或(huò)非金(jīn)屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣(yuán)體)表麵而形(xíng)成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。真空鍍膜是真空應用領域的一個(gè)重要方麵,它是以真空技術為基礎,利用物理(lǐ)或化學方法,並吸收電子束、分子束、離子束、等離子(zǐ)束、射頻和磁控等一(yī)係列新技術,為科(kē)學研究和實際生產提供薄膜製備的一種新工藝。簡單地(dì)說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺(jiàn)射,使其在被塗覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固並沉積的方法,稱為真空鍍膜。