真空鍍膜和光學鍍膜差（chà）異

一、概念差異

1.真（zhēn）空鍍膜是指在高真空條件（jiàn）下加（jiā）熱金屬或非金屬材料，使其在（zài）被鍍物體（tǐ）(金屬、半導體或絕（jué）緣（yuán）體)表麵蒸發凝結（jié）形（xíng）成薄膜的（de）一種方法。如真空鍍鋁、真空（kōng）鍍鉻等。

2. 光（guāng）學鍍膜是指在光學（xué）元件表麵塗覆一層(或多層)金屬(或介電)薄膜的工（gōng）藝。在（zài）光學元件表麵塗膜的目的是為了減少或增加光的反射、分（fèn）束、分色、過濾、偏振等要求。常用的（de）包（bāo）覆（fù）方法有真空包覆(物理包覆的一種)和化學（xué）包覆。

二、原則差異

1. 真（zhēn）空（kōng）鍍膜是（shì）真空應用的一個重要方麵，它以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，吸收了電子束（shù）、分子束、離子束、等離子體束、射頻、磁控管等一係列（liè）新技術，為科學研究（jiū）和實際生產提（tí）供了薄膜製備的新工藝。簡單地說，就是在真空中蒸發或濺射（shè）金屬、合金或化合物，使其凝固並沉（chén）積在塗層物（wù）體(稱為（wéi）基材、襯底或襯底)上的方（fāng）法。

2. 光的幹涉在薄膜光學中有著廣泛的應用。光學（xué）薄膜技術常用的方法是利用真空濺射在玻璃基板上塗覆（fù）薄膜，一般用來控製基板對入射光束的反射率（lǜ）和透射率，以滿足不同的（de）需要。為了消除光學元件（jiàn）表麵的反射損耗，提高成像質量（liàng），在表麵塗（tú）覆一（yī）層或多（duō）層透明的介電膜，稱為防反射膜或防反射膜（mó）。

隨著激（jī）光技術的發展，對膜層的反射率和透射率有了不同的要求，促進了多（duō）層高反射（shè）膜和寬帶增透膜（mó）的發展。為滿足各種（zhǒng）應用的（de）需要，采用高反射膜製造偏光反射膜、彩色（sè）光譜膜、冷光膜、幹涉濾光片等。光學元件（jiàn）表麵塗覆後，光在膜層上（shàng）多次反射和透射（shè），形成多（duō）束幹涉。通過（guò）控製膜層的折射率和厚度，可以（yǐ）得到不同（tóng）的光強分布，這是幹涉鍍膜的基本原理。

三、方法和材料（liào）的差異

1. 材料采用（yòng）真空鍍膜法:

(1)真空蒸發鍍膜:對待鍍（dù）膜基材進行清洗後，置於鍍膜室內，將其抽離，並將膜材加熱（rè）至高溫，使蒸汽達到13.3Pa左（zuǒ）右，蒸汽分子飛向基材表麵，凝結成薄膜。

(2)陰極濺射鍍（dù）:將待鍍基材置於陰極（jí）對麵，將惰性氣體(如（rú）氬氣)引入真空室，保持壓力約1.33-13.3Pa，然後將陰極接2000V直流電源激發輝光（guāng）放電。帶正電的氬離子與陰極碰撞，使陰極射出原子。濺落的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上，形成薄膜。

(3)化學氣相沉積:通過對選定的金屬或有機化合物進行（háng）熱分解得到沉積薄膜的過程。

(4)離子鍍:離子（zǐ）鍍（dù）本質上是真空蒸發和陰極濺射的（de）有機結合，結合了兩者（zhě）的（de）工藝特點。各種塗裝方式（shì）的優缺點如表6-9所示。

2. 光（guāng）學鍍膜方法材料

(1)氟化鎂:一種純度高的無色四方結晶粉末。用它來製作（zuò）光學鍍膜可以提高透（tòu）光（guāng）率，防止坍（tān）塌點。

(2)二氧化矽:無（wú）色透明晶體（tǐ），熔點高，硬度高，化學穩定性好。純度高，用它製備高質量的（de）SiO2塗層，蒸發狀態好，無坍塌點。根據使用要求分為紫外線、紅外線和可見光。

(3)氧（yǎng）化鋯:白色重晶態，高（gāo）折射率，耐高溫。化學性質（zhì）穩定，純度高。可用於製備無斷裂點（diǎn）的高質量氧化鋯塗層。