HVP高壓窄脈（mò）衝電源

主要型號：

主要特點：
   A具有行動穩定電壓功能，具有理想的電壓陡降特性，
有效抑製（zhì）工件表麵打火，明顯提高鍍件的成品（pǐn）率、表麵光潔度和（hé）膜層結合（hé）力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬（kuān）度25uS)。
   D 可選擇手（shǒu）動控製（zhì）/模擬量接口控製，可選（xuǎn）配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使（shǐ）用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小（xiǎo）、重量輕、功能（néng）全、性能穩（wěn）定可（kě）靠，生產工藝嚴格完善。
該（gāi）係列產品采用先進的DSP控製係統（tǒng），充分保證鍍膜工藝（yì）的重複性，
並且具有抑（yì）製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹（pǐ）配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高（gāo）了靶麵清洗速度；
主（zhǔ）要（yào）參數均可大範圍連續調節；
方便維護（hù），可（kě）靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展（zhǎn）功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

高壓窄脈衝電源（yuán）適用於特殊鍍膜工藝時被鍍工件（jiàn）表麵（miàn）的輝光清洗、鍍膜前的離子轟擊和鍍膜時的離子加（jiā）速等。

社會不斷發展，技（jì）術（shù）也（yě）是不斷得在創新。真（zhēn）空鍍膜（mó）電源的運用（yòng）範圍是越來越廣泛了（le），真空（kōng）鍍膜技術是一種新穎的材（cái）料合成（chéng）與加工的新技術，是表（biǎo）麵工程技術領域的重要組成部分。隨著全球製造業高速發展，真空（kōng）鍍膜技術應用（yòng）越（yuè）來越廣泛。從半導體集成（chéng）電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製藥（yào）等行業的發展來（lái）看，對真空鍍膜設備、技術材料需求都在（zài）不斷增加，包括製造大規模集成電路（lù）的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜（mó）；充分展示和應用（yòng）各（gè）種光學特性的光學膜；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導（dǎo）電膜和增透（tòu）膜；建（jiàn）築、汽車行業上應用的玻璃（lí）鍍膜和裝飾膜；包裝領域用防（fáng）護膜、阻隔膜；裝（zhuāng）飾材料上具體（tǐ）各種功能（néng）裝飾效果的功能膜；工、模具（jù）表麵上應（yīng）用的耐磨超硬膜（mó）；納（nà）米材料（liào）研究方麵的各種（zhǒng）功能性薄膜等（děng）。對於國內真空鍍膜設備製造企業（yè）發展建議如下：

1、目（mù）前（qián）實體經濟走勢整體疲弱，複蘇充滿不確定性，經（jīng）濟處於繼續探底（dǐ）過（guò）程，真（zhēn）空鍍膜（mó）設（shè）備製造企業應著力進行產業結構優化升級，重質量、重服務明確市場定（dìng）位，大力研發擁有自主知識產權的新產品新工藝，提高產品質量和服務水平。

2、依托信息化發展趨勢，堅持“以信息化帶動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條科技含量高、經（jīng）濟效益好、資源消耗低（dī）、環境汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加強與擁有行業先進技術和工藝水平（píng）的科研院所、大型企業、高校合作，使得新品能迅（xùn）速推向市（shì）場（chǎng）。

真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空（kōng）鍍膜設備行業等製造業將以信息化融合為重心，依靠技術進（jìn）步，更加注重技術能力積累（lèi），製造偏向服務（wù）型，向世界真空（kōng）鍍膜設備行業等製造業價值鏈高端挺進。