北京MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主要型號（hào）：

主要特（tè）點：
   A 明顯改善靶麵電（diàn）荷（hé）積累（lèi）現象，減小濺（jiàn）射表麵的打火次數（shù），提高膜（mó）層質量。
   B 具有平均電源穩定（dìng）功能（néng），具有理想的電壓陡降特性，
充分滿足磁（cí）控濺射工藝過程的連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻（pín）率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模擬量（liàng）接（jiē）口控製，可選配RS485通訊接（jiē）口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用（yòng）進口IGBT或MOSFET作為功率開（kāi）關器件，
體積小、重量輕、功（gōng）能全、性能穩定可靠（kào），生產工藝嚴格完善。
該係列產品（pǐn）采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路（lù）功能，
具（jù）有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗（xǐ）速度；
主要（yào）參數均可大範圍（wéi）連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現（xiàn）自動化控製。

主要用途：

單極脈衝磁控（kòng）濺射適用於金（jīn）屬、合金（jīn）及石墨等靶材鍍製金屬膜、碳膜和（hé）部分氧化物、氮（dàn）化物及（jí）碳化（huà）物（wù）膜。

鏡片在接受鍍膜前必須進（jìn）行預清洗，這種清洗要求很高，達到分子級。在清洗槽中分別放置各種清洗液，並采用超（chāo）聲波加強清（qīng）洗效果，當鏡片清洗完（wán）後，放進真空（kōng）艙內，在此過（guò）程（chéng）中要特（tè）別注（zhù）意避免空氣中的灰塵和（hé）垃（lā）圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在（zài）真空（kōng）艙（cāng）內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在（zài）鏡片表麵。最後的清洗是在（zài）真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的離子槍將（jiāng）轟擊鏡片的（de）表麵（例如用氬離子），完成此道清洗工序後即進行減（jiǎn）反射（shè）膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什麽（me）在現（xiàn）在（zài）會應用那（nà）麽多呢，有哪些（xiē）明顯的效果？

概念的（de）區（qū）別：

1、真（zhēn）空鍍膜是指在高真空的條（tiáo）件下加熱金屬或非金屬材（cái）料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬（shǔ）、半導體（tǐ）或絕（jué）緣體）表麵而形成薄膜的一（yī）種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上一層(或（huò）多層)金屬(或介質)薄膜（mó）的工藝過程。在光學零件表（biǎo）麵鍍膜的目的是為（wéi）了達到（dào）減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。