江蘇MSDP單極脈衝磁（cí）控濺射電源

主要型號：

主（zhǔ）要特點：
   A 明顯（xiǎn）改善靶麵電荷積累現象，減小濺（jiàn）射表麵（miàn）的打火次（cì）數，提高膜層質（zhì）量。
   B 具有平均電源穩定功能，具有理（lǐ）想（xiǎng）的電壓陡降特性，
充分滿足磁控（kòng）濺射工藝過程的連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占（zhàn）空比20%~80%。
   E 可選（xuǎn）擇手動控製/模擬量（liàng）接口控（kòng）製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關（guān）器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定（dìng）可（kě）靠，生產工藝嚴格（gé）完善。
該（gāi）係列產品采用先進的DSP控製係統（tǒng），充分保證鍍膜工藝的重複（fù）性，
並且具有抑製靶材弧光（guāng）放電及抗短路功能，
具（jù）有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提（tí）高了靶（bǎ）麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可（kě）靠性高（gāo）；
PLC接（jiē）口和RS485接口擴展功能，方便（biàn）實現自動化控製。

主要用途：

單極脈（mò）衝（chōng）磁控濺（jiàn）射適用於金屬、合金及（jí）石墨等靶材鍍製金屬膜（mó）、碳膜和部（bù）分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡（jìng）片在接受鍍膜前（qián）必須進行預清洗，這種清洗（xǐ）要求很高，達（dá）到分（fèn）子級。在清洗槽中分別放置（zhì）各種清洗液，並采用（yòng）超聲波加強清洗效（xiào）果，當鏡片清洗完後，放進真空艙內，在此過程中要（yào）特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後（hòu）的（de）清洗是在真空艙內（nèi），在此過（guò）程中要特別（bié）注（zhù）意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在（zài）鏡片（piàn）表麵。最後的清洗是在真空艙內鍍前進行的，放（fàng）置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的表麵（例（lì）如（rú）用氬離子），完成此道清洗工序後（hòu）即進行減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什麽在現在會應（yīng）用那麽多呢，有哪些明顯的效果？

概念的區別：

1、真空鍍膜是指在（zài）高真空的條件下加熱（rè）金屬或非金屬材料（liào），使其蒸發並凝結於鍍件（jiàn）（金屬、半導體或絕緣體）表（biǎo）麵而形成（chéng）薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零件（jiàn）表麵上鍍上（shàng）一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過（guò）程。在光學零件表（biǎo）麵鍍膜的（de）目的是（shì）為了達到減少（shǎo）或增加光（guāng）的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的（de）一種)和化學鍍膜。