上海MSDP單極脈衝（chōng）磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明顯改善靶麵電荷積累現象，減小濺射表麵的打火次數，提高膜層質（zhì）量。
   B 具有平均電源穩定功能，具有理想（xiǎng）的電壓陡降特性，
充（chōng）分滿（mǎn）足磁控濺（jiàn）射（shè）工藝過程的連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動（dòng）控製/模擬量接口控製，可選（xuǎn）配RS485通訊接口。
采用先進（jìn）的PWM脈（mò）寬調製技術，使用（yòng）進口IGBT或MOSFET作（zuò）為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定（dìng）可靠，生產工（gōng）藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製（zhì）係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑（yì）製靶材弧光放（fàng）電及抗短路功能，
具有極佳的負載（zǎi）匹配能力，既保證了靶麵清洗（xǐ）工藝的穩（wěn）定性，又提高了靶麵（miàn）清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可（kě）靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展（zhǎn）功能，方便實（shí）現自動化控製。

主要用途：

單極脈（mò）衝磁控濺射適（shì）用於金屬、合金及石墨等靶材鍍製（zhì）金屬膜、碳（tàn）膜和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗（xǐ），這種清洗要求很高，達到分子級。在清（qīng）洗槽中分別放置各種清洗液，並采用超聲波加強清（qīng）洗效果，當鏡（jìng）片清洗完後（hòu），放進（jìn）真空艙內，在（zài）此過程中要特別注意避免空（kōng）氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的（de）清洗是在真空艙內，在（zài）此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內鍍前進行的，放置在（zài）真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的表麵（例如用氬離子），完成此道清洗工序後即（jí）進行減（jiǎn）反射膜的鍍（dù）膜。

真空鍍（dù）膜電源為什麽在現在會應用那麽（me）多呢，有哪些明顯的效（xiào）果？

概念的區別：

1、真空鍍膜（mó）是指在高（gāo）真空的條件下加熱金屬或非（fēi）金屬材（cái）料（liào），使其蒸發（fā）並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體（tǐ））表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍（dù）鋁、真空鍍鉻（gè）等。

2、光學鍍膜是指在光（guāng）學零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介（jiè）質)薄膜的工（gōng）藝過程。在光學零件表麵鍍膜的（de）目的是為了達到減少或（huò）增加光的（de）反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的（de）一種)和化學鍍膜。