浙江MSDP單極脈（mò）衝磁控濺射電源

主要型（xíng）號：

主要（yào）特點：
   A 明顯改（gǎi）善靶麵電荷積累現象，減小濺射表麵的（de）打火次數，提高膜層質量。
   B 具有平均電源穩定功能，具（jù）有理想的電（diàn）壓陡降特性，
充分（fèn）滿足磁控濺射工（gōng）藝過（guò）程的連續性（xìng）。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控（kòng）製/模擬量接口（kǒu）控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調（diào）製技術，使用進口IGBT或MOSFET作（zuò）為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝（yì）嚴格（gé）完善。
該係列產品采用先進的DSP控（kòng）製係統，充分（fèn）保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光（guāng）放電及抗短路功能，
具有（yǒu）極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵（miàn）清洗（xǐ）工藝（yì）的穩定性，又提高了靶麵清洗速（sù）度；
主要參數均可大範圍連續調節（jiē）；
方（fāng）便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴（kuò）展功能（néng），方便實現自（zì）動化控製。

主要用途：

單極脈衝（chōng）磁控濺射適（shì）用（yòng）於金屬、合金及石墨等靶材鍍（dù）製金屬膜、碳（tàn）膜和部分氧（yǎng）化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片（piàn）在接受鍍膜前必須進行預清洗，這種清洗要求很高，達到分子級。在清洗槽（cáo）中分別放置各種清洗液，並（bìng）采用超聲波加強清洗（xǐ）效果，當鏡片清洗完後，放進真（zhēn）空艙內，在此過程中（zhōng）要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾（jī）再黏附在鏡（jìng）片表麵。最後的清洗是在真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內（nèi）鍍前進行的，放置在真空艙（cāng）內的離子槍將轟擊鏡片的表麵（例如用氬離（lí）子），完成（chéng）此道清洗工序（xù）後即進（jìn）行減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什麽（me）在現在會應用那麽多呢，有哪些明（míng）顯的效果？

概念的區別：

1、真空鍍膜是指在（zài）高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導（dǎo）體或絕緣體）表麵而形成薄膜（mó）的一種方法（fǎ）。例如，真（zhēn）空鍍鋁、真空鍍鉻等（děng）。

2、光學鍍膜是指在（zài）光學零件表麵上（shàng）鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝（yì）過程。在光學零（líng）件表麵鍍膜（mó）的目的是（shì）為了達到減少或增加光的反射、分束、分色（sè）、濾（lǜ）光、偏（piān）振（zhèn）等要求。常用的（de）鍍膜法（fǎ）有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。