電鍍設備是工（gōng）業生產加工中不可缺少（shǎo）的（de）設備之一。在當前市場經濟條件下，如何在電鍍過程中降低電耗，降低加工成本，提高企業的競（jìng）爭力變得越（yuè）來越重要。電鍍電源的選擇是否正確，直接關係到鍍層的（de）質量、鍍液的生產能力、能源的消耗和投資的效益。直流電動機因其能（néng）

ISPC離子源（yuán）電源是一種專門為離子束蝕刻、沉（chén）積、熔合（hé）等（děng）工藝而設計的高頻電源。它具有以下幾個主要功能：高頻發生器：ISPC離子源電源內置高頻發生器，能夠提（tí）供高頻電場，使離子源中的氣體分子（zǐ）被（bèi）電離形成離子束。穩定性強：該電源采用先進的控製技術和傳

NVB等（děng）離子體清洗電源是一種新型的高頻電源設備，主要用於半（bàn）導體、電子（zǐ）、光電、醫療器械等行業中對物體表麵進行（háng）去汙、去油（yóu）、除漆等清（qīng）洗處理。下麵將從以下幾個方麵介（jiè）紹NVB等（děng）離子體清洗電源的優點。清洗效果好。NVB等離子體清洗電源使用等離子體技術進

工業科技不斷發展，各類生產線也在發生著變（biàn）化，傳（chuán）統的人工操作生產線已經被社會（huì）慢慢淘（táo）汰，越（yuè）來越多的工業生產線（xiàn）趨於自（zì）動（dòng）化。同樣的，電鍍設備行業的（de）生產線也由原來的手工操作（zuò）變成了現在的係統控製（zhì）自動化操作，這樣的變化順應行業（yè）的發展（zhǎn）潮流，使得高頻電鍍電（diàn）源

真空（kōng）鍍膜是一種通過物理方法生產薄膜（mó）材料的技術。在真空室中，材料的原子從加熱（rè）源中（zhōng）分離出來，撞擊在被鍍物（wù）體的表麵上。真空鍍膜（mó）機在正常工作情況（kuàng）下，通電時必須先打開水管（guǎn），工作中要隨時注意水壓。高（gāo）品質真空鍍膜電源在離子轟擊蒸發過程中，要特別注意高壓（yā）線（xiàn）

真空（kōng）鍍膜有蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離（lí）子鍍膜三種形式：當濺射鍍膜用（yòng）高（gāo）能粒子轟（hōng）擊固體表麵時（shí），可以獲得（dé）固體表麵的粒子。能量從表麵逸（yì）出（chū）並沉積在基板上；離子鍍蒸（zhēng）發物質的分子通過電子撞擊被電離，並以離子的形式沉積在固體（tǐ）表麵。所有三種形式的真空鍍膜技術都需要