了解真空鍍膜和光學鍍（dù）膜的區別

1、概（gài）念差異

1. 真空鍍膜是指在高真空條件下加熱金屬或（huò）非金屬材料，使其在被（bèi）鍍件（jiàn）(金屬、半導體（tǐ）或絕緣體)表麵蒸發凝結形成薄膜的一種方法。如真空鍍鋁、真空鍍（dù）鉻（gè）等。

2. 光學鍍膜是指在光學元件表麵塗覆一層(或多層)金屬(或介電)薄膜（mó）的（de）工藝。在（zài）光學元件表麵（miàn）塗膜的目的是為了減少或（huò）增加光的反（fǎn）射、分束、分色、過濾、偏振等（děng）要求。常用的包（bāo）覆方法有真空包覆(物理包覆的一種)和化學包覆。

2、原則差異

1. 真空鍍膜是真空應用的一個重要方麵，它以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，吸收了電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻、磁控管等一係列新技術，為科學研究和（hé）實際生產提供了薄膜製備的新（xīn）工藝。簡單地說，就是在真空（kōng）中蒸發或濺射金屬、合金或化合物以（yǐ）使其凝（níng）固並沉積在塗層物體(稱（chēng）為基材、襯底或襯（chèn）底)上（shàng）的方法。

2. 光的幹涉在薄膜光學中有著廣泛的應用。光學薄膜技術常用的方法是通過真空濺射在玻璃基板上塗覆薄膜，一般用來控製基板對入射光束的反射率和透射率，以滿足不同的需要。為了消除光學元件表麵的反射損失，提高成像質量，在表（biǎo）麵塗上一層或多層（céng）透明的介電膜，稱為抗反射膜或抗反射膜。

隨著激光技術的發展，對膜層的反射率和透射率有了不同的要求，促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的發展。為滿足各（gè）種應用的需要（yào），采（cǎi）用高反射膜製造偏光反射膜、彩色光譜膜、冷光膜、幹（gàn）涉濾光（guāng）片等。光學元件（jiàn）表麵塗覆後，光在膜（mó）層上（shàng）多次反（fǎn）射透射，形成多束幹涉。通（tōng）過控製膜層的折射率（lǜ）和厚度，可以得（dé）到不（bú）同的光強分布，這是幹涉鍍膜的基本原理。

3、方法和材料（liào）的差異（yì）

1. 真空鍍膜法

(1)真空蒸發鍍:將待鍍（dù）基（jī）材清洗幹淨（jìng），放入鍍膜室。抽真空後，將薄膜（mó）材料加熱到高溫，使（shǐ）蒸氣達（dá）到約13.3Pa，使蒸氣分子飛到基片表麵，凝結成薄膜。

(2)陰 極濺射鍍:將待鍍基材置於陰 極的對麵，在真空室中引入惰（duò）性氣體(如氬氣)，保持壓力約1.33-13.3Pa，然後將陰 極接（jiē）在2000V直流（liú）電源上刺激輝光放電。正（zhèng）氬離子撞擊陰 極，使其釋放（fàng）出原子。濺落的原子通過惰（duò）性氣氛沉積在襯（chèn）底上，形成（chéng）薄膜。

(3)化學（xué）氣相沉積:通過對選定的金屬（shǔ）或有機化合物進行熱分解得到沉積薄膜的過程。

(4)離子鍍:離子鍍本質上是真空蒸發鍍和陰 極濺射鍍的有機結合，具（jù）有兩者的工藝特點。各種塗覆方式（shì）的優（yōu）缺點如表6-9所示。

2. 光學鍍膜方法用材料

(1)氟化鎂:純度高的無色四方（fāng）結（jié）晶粉末，用於光學鍍膜（mó），提高透光率，防止坍塌點。

(2)二（èr）氧化矽:無色透明晶體，熔（róng）點高，硬度高，化學穩定性好。純（chún）度高，用於製備高品質SiO2塗層，蒸發狀態好（hǎo），無坍塌點。根據使（shǐ）用要求分為紫（zǐ）外（wài）線、紅外線和可見光。

(3)氧化鋯:白色重晶態，具有高折射率和耐高溫（wēn）性能，化學性質穩（wěn）定（dìng），純度高。用（yòng）於製（zhì）備無坍塌點的（de）高質量氧化鋯塗層（céng）。