真空鍍膜電源廠（chǎng）家簡述離子鍍的原理

2020-08-25 00:00:00

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離子鍍種類很多，蒸發遠加熱方式有電阻（zǔ）加熱、電子束加熱、等離子電子束加（jiā）熱、高頻感應加熱等。

真空鍍膜電（diàn）源廠家

離子鍍是真（zhēn）空室中，利（lì）用氣體放電或被（bèi）蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積（jī）在基（jī）片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技（jì）術和真空蒸發（fā）三者有機結合起來，不僅能明顯地改進（jìn）了膜質量，而且還擴大了薄膜的應（yīng）用範圍。多（duō）弧電源其優點是薄膜附著力（lì）強，繞射性好，膜材廣泛等。真空鍍膜電源（yuán）廠家（jiā）首次提出離子鍍原理，起工作過程（chéng）是：

先將真空室抽至4×10（-3）帕以上的真空度，再接通 高壓電源，在蒸發源與基片之間建立一個低壓氣體放電的低（dī）溫等離子區。基（jī）片電極（jí）接上5KV直流負高壓（yā），從而形成輝光放電（diàn）陰極。輝光（guāng）放電去產（chǎn）生的惰性氣體離子進（jìn）入陰極暗區被電場（chǎng）加速（sù）並轟擊基片表麵，對其進行清洗。然後計入鍍膜過程，加熱使鍍料氣化，起原子進入等離子區，與惰性氣體離子及電子發生（shēng）碰撞，少部（bù）分產生離化。離化後的例子及氣體離子以（yǐ）較高能量轟擊鍍層表麵，致使膜層質量得到改善。

然而多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大的（de）區別。多弧離子鍍采用的是弧光放電，而並不是傳統離子鍍（dù）的輝光放電（diàn）進行沉積。簡單的說，多弧離子鍍的原理就是（shì）把陰極靶作為蒸發（fā）源，通過靶與陽極（jí）殼體之間的（de）弧光放電，使靶材蒸發，從而在（zài）空間中形成等離子體，對基體進行沉積。