浙江HVP高壓窄脈衝電源（yuán）

主要型號：

主要特點：
   A具有行（háng）動穩定電壓功能，具有理想的電壓陡降（jiàng）特性，
有效抑製工件表麵打火，明顯提高鍍（dù）件的成品率、表（biǎo）麵光潔度（dù）和（hé）膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻（pín）率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度（dù）25uS)。
   D 可選擇手動控製/模擬量接口（kǒu）控製，可選配RS485通訊接（jiē）口（kǒu）。
采用先進的PWM脈寬調（diào）製（zhì）技術，使（shǐ）用進口IGBT或MOSFET作為功率（lǜ）開關器件，
體積小、重量（liàng）輕、功能全、性能穩定可靠，生產（chǎn）工藝嚴（yán）格完善（shàn）。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分（fèn）保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電（diàn）及抗（kàng）短路功能，
具有極佳的負載（zǎi）匹（pǐ）配能力，既（jì）保證了靶麵清洗工藝的（de）穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要（yào）參數均可大範圍連續調（diào）節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接（jiē）口擴展功能，方便實現自動（dòng）化控製。

主要用途：

高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍膜工藝時被鍍工件表麵的輝光（guāng）清洗、鍍膜前的離（lí）子轟擊和鍍膜時（shí）的離子加（jiā）速等（děng）。

社會不斷發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍（dù）膜（mó）電源的運用範圍是越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表麵工程（chéng）技術領域的重要組成（chéng）部分。隨著（zhe）全球製造業高速發展，真空（kōng）鍍（dù）膜技術應用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸（mō）屏、太陽（yáng）能光伏、化（huà）工、製藥（yào）等行業的發展來看，對真空鍍膜設備、技（jì）術（shù）材料需求都在不斷增（zēng）加，包括製造大（dà）規模集成電路的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數（shù）據記錄（lù）儲存（cún）膜（mó）；充分展示和應用各種光學特性（xìng）的光學膜；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜和增透膜；建築、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜；包裝領域用防護（hù）膜（mó）、阻隔膜；裝飾材料上具體各種功能裝飾效果的功能膜；工、模具表麵（miàn）上應用的耐磨超硬膜；納米材料研究方麵的各種功能性薄膜等。對於國內真空鍍膜設備製造企業發展建議如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，複蘇充滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真空鍍膜設備（bèi）製造企業應著力進行產業結構優化（huà）升級，重質量、重服務明確市場定位，大力研發擁有自主知識產權的新產品新工（gōng）藝，提高產品質量和服務水平。

2、依（yī）托信（xìn）息化發展趨勢，堅持“以信息（xī）化帶動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條科技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙染少、人力資源優勢得（dé）到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加強與擁有行業先進技術和工藝水平的科研（yán）院所、大型企業、高（gāo）校合作，使得新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術及設備擁有十（shí）分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜（mó）設備行業等製造（zào）業將以信息化融（róng）合為（wéi）重（chóng）心，依靠技術進步，更加注重技術能力積累，製造偏向服務型，向世界（jiè）真空鍍膜設（shè）備行業等製造業價值鏈高端（duān）挺進（jìn）。