浙江（jiāng）MSD係（xì）列直流磁控濺（jiàn）射電源

主要型號：

主（zhǔ）要特點：
   A 采用先進的電流型開關電源（yuán）技術，減小輸出儲能元件，
同時（shí）提高了抑（yì）製打火及重啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒（héng）流/恒功率模式（shì）可選（xuǎn）。恒功率模式相（xiàng）對於傳統的恒流模式，
更能保（bǎo）證鍍膜工（gōng）藝的重複性。
  C 具有理想的電壓陡降（jiàng）特性，自動識別偽打火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可選擇手動控（kòng）製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
  F 采用進口大（dà）功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率（lǜ）開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充（chōng）分（fèn）保證（zhèng）鍍（dù）膜工藝的（de）重複性，
並且具有抑製（zhì）靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了（le）靶麵（miàn）清洗工（gōng）藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護（hù），可靠性（xìng）高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自（zì）動化控製。

主要（yào）用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種金屬

在電子科技快速發展的時代中，電源的應用可以說是隨處可見的，或許正（zhèng）是因為電源的普遍應用（yòng），所以電源的類型也隨之而（ér）多樣（yàng）。真空鍍膜電源是眾多電源類型中的一種，這種電源與普通的電源有一定的區別，單（dān）是電源的（de）外觀就有（yǒu）明顯的不同（tóng）。

     真空鍍膜機光學鍍膜加工上有什麽要注意（yì）的嗎？當光線進入不同傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學瞄準鏡中（zhōng）有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增（zēng）透膜（mó），單層增（zēng）透（tòu）膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜（mó）則可（kě）讓反射降低至0.25%，所以（yǐ）整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增（zēng）透（tòu）膜的鏡片則呈淡綠色（sè）或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增（zēng）加透射光強度的實質是作為電磁波的光波在傳（chuán）播的過程中，在不同介質的分界麵（miàn）上，由於邊（biān）界條件的不同，改變了其能量的分布。對於單層（céng）薄膜來說，當增透膜兩邊介質不同（tóng）時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用（yòng），對於一般折射率在1.5左右的光（guāng）學玻璃，為使單層膜達（dá）到100%的（de）增透效（xiào）果，可使n1=1.23，或接（jiē）近1.23；還（hái）要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍（bèi）四分之一個波長。單層膜隻對某一特定波長的電磁波增透（tòu），為使（shǐ）在（zài）更大範圍內和更多（duō）波長實現增透，人們利用鍍多（duō）層膜來實現。

人們對增透（tòu）膜（mó）的利用有了很多的經（jīng）驗，發現（xiàn）了不少可以作為（wéi）增透膜的材料；同時也掌握了不（bú）少先（xiān）進的（de）鍍膜技術，因此增透膜的應用涉及醫（yī）學（xué）、軍事、太空探索（suǒ）等各行各業（yè），為人（rén）類科（kē）技進步作出了重大貢獻。