主要型號:
型號(hào) | 功(gōng)率(W) | 工作電壓(V) | 最大峰值電流(A) | 外(wài)形尺(chǐ)寸(cùn) | 冷卻(què)方式(shì) |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要(yào)特點:
A 可選擇三角波、矩形波(bō)、正弦波三種波形,波形的最高值(zhí)和最(zuì)低值可獨(dú)立設置。
B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比10%~90%
E 可選擇手動控製/模擬量接口控(kòng)製,可選配RS485通訊接口。
采用先進的(de)PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠,生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用(yòng)先進的(de)DSP控製係統(tǒng),充分保證鍍膜工藝的重複性,
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能,
具有極佳的負載匹配能力,既保證了靶(bǎ)麵(miàn)清(qīng)洗工藝(yì)的穩定性,又提高了靶麵清洗速度;
主要參數均可大(dà)範圍連續調節;
方便維護,可靠(kào)性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便(biàn)實(shí)現自動化控製。
主要(yào)用途:
MS係(xì)列勵(lì)磁多波形電源選擇多種電(diàn)壓波形輸出。通過驅動(dòng)多弧靶外圍磁場線圈,產生周期性(xìng)可(kě)變磁(cí)磁場,使多弧輝光(guāng)由原來的集中放電變為均勻放電,提高工件膜層(céng)質量
真空鍍(dù)膜電(diàn)源廠家(jiā)告訴你高頻開關電鍍電源應用在金屬表麵處理及小功率範圍內的國內(nèi)市場(chǎng)已經接受,具有廣闊的市場前景。但產品主要局限於1500A以下的中小功(gōng)率領域,在(zài)國內也(yě)隻有少量廠家生產(chǎn),從技術角度看主要限於硬開關變換(huàn)模(mó)式和模擬控製方式,可靠(kào)性、EMC及(jí)工藝結構等方麵具有明(míng)顯的局限性,同焊(hàn)接(jiē)等領域全麵(miàn)推廣應用開關式電源的景況具有較大差距。
真空鍍膜(mó)是指在高真(zhēn)空的條件下(xià)加熱金屬(shǔ)或非金屬(shǔ)材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導體或(huò)絕緣(yuán)體(tǐ))表麵而形成薄膜的一(yī)種方(fāng)法。
真空鍍膜這一塊是真空應用領域的重要(yào)方(fāng)麵,在(zài)真空中以真(zhēn)空技術為基礎,把(bǎ)物理方法(fǎ)和化學方法利用起來(lái),通(tōng)過吸收分(fèn)子(zǐ)束、離子束、電子束、等離子束、射頻和(hé)磁控等一係列高新技(jì)術(shù),在科學研究和實際(jì)生產中,為(wéi)薄膜製備提供(gòng)一種新工藝,簡單的一點來說(shuō),要在真(zhēn)空中利用合金、金屬或化合物進行蒸發和濺射,並讓被塗覆的物體(有基片、稱基板、基體等等)進行凝固並(bìng)沉積(jī),這種方(fāng)法稱為真空鍍膜,那真(zhēn)空(kōng)鍍膜電(diàn)源就可(kě)想而知(zhī),眾所周知,在一些材(cái)料的表麵上(shàng)鍍上一層薄膜,就可以使這種材料具有(yǒu)多種性能,例(lì)如良好的(de)物理和化學性能並且是嶄新的;
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